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待競價詳細（ *** ）---- (略)
申購單主題：
高真空磁控濺射鍍膜機
申購單位：
(略)
是否含稅：
是
使用幣種：
人民幣
申購備注：
設備名稱
(略) 商
型號
是否標配
規格
數量
報價類型
售后服務
附件
高真空磁控濺射鍍膜機
(略) -托帕
CK *
是
1. 系統主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（ * 個靶）、直流電源、全自動調諧射頻電源、樣品臺、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統等組成。 2. 濺射室極限真空度：≤6.6x * -5 Pa （經連續烘烤除氣后）；系統真空檢漏漏率：≤5.0x * -7Pa.l／S； 系統從大氣開始抽氣：濺射室 * 分鐘可達到6.6x * -4 Pa； 系統停泵關機 * 小時后真空度：≤5Pa 3. 濺射室中配有3套 * 高性能永磁共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調），各靶可獨立／順次／共同工作，磁控靶通水冷卻，磁控靶配有氣動擋板結構。 4. 系統配有 * W直流電源2臺， * W全自動調諧射頻電源1臺5. 加熱旋轉樣品臺可放置 * 片樣品， 具有連續旋轉功能，旋轉0— * 轉／分連續可調，可加溫至 * ℃。6.真空測量采用國產ZDF- * 復 (略) 測量。 7.系統配有氣體質量流量控制進氣系統 。
1.0
國內含稅價;
人民幣
無附件
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