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| 多靶聚焦磁控濺射系統 | |
| (略) 在采購意向： | (略) * 月政府采購意向 |
| 采購單位： | (略) |
| 采購項目名稱： | 多靶聚焦磁控濺射系統 |
| 預算金額： | * . *** 萬元(人民幣) |
| 采購品目： | A *** 真空應用設備 |
| 采購需求概況： | 同型號規格設備 * 批3臺，可用于沉積金屬、半導體等材料；基片尺寸：4～8&# * ;，濺射靶數量：3個，濺射靶尺寸：2～6&# * ;；極限真空：≤8× * -5Pa；膜厚均勻性：≤±5％。 * 年4月到貨，現場調試時間不小于兩周，驗收完成以后保修期3年。 |
| 預計采購時間： | *** |
| 備注： | |
本次公開的采購意向是本單位政府采購工作的初步安排， (略) 和采購文件為準。
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